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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:氣氛型可調高溫加熱裝置HCTD

  • 產(chǎn)品型號:HCTD-HCHD
  • 產(chǎn)品廠商:華測
  • 產(chǎn)品價格:0
  • 折扣價格:0
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
氣氛型可調高溫加熱裝置氣氛可調節(jié)近紅外高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進行太陽能電池/化合物半導體等的工藝開發(fā)和各種應用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合,并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來的高速加熱冷卻裝置。氣氛型可調高溫加熱裝置也可以根據(jù)用戶的需進行定制。
詳情介紹:

氣氛型可調高溫加熱裝置





產(chǎn)品介紹

中小型高溫爐是工業(yè)生產(chǎn)與科研中常用的設備之一。目前的高溫爐基本均采用硅鉬棒、硅碳棒作為加熱體,升溫速率慢、無法實現(xiàn)變溫環(huán)境模擬,且不同氣氛環(huán)境以共用。在研的工業(yè)級與科研級特種紅外高溫爐,具有快速升溫、變溫模擬、定制紅外加熱波段、紅外反射涂層保溫、氣氛可調(一臺設備同時實現(xiàn)大氣/真空/惰性氣體等)的優(yōu)點。

        氣氛可調節(jié)近紅外高溫加熱裝置HCTD系列/HCHD系列可以進行太陽能電池/化合物半導體等的工藝開發(fā)和各種應用程序的安裝。此系列是將紅外線反射爐和溫度控制器組合,并且還將石英的熱處理室緊湊地裝備起來的高速加熱冷卻裝置。也可以根據(jù)用戶的需進行定制。

更多應用

太陽能電池基板的熱處理

在氣氛環(huán)境下的熱處理

各種材料的基礎研究氣氛退火熱處理

模擬器漸變熱處理

熱循環(huán)熱沖擊試驗研究

半導體材料的燒結和工藝退火爐


特點

設定從高速加熱到低速加熱的廣泛條件

多步驟及循環(huán)加熱利用氣體冷卻機構的高速氣體淬火

可以簡單地從電腦上輸入溫度程序設定和外部信號

另外,可以在電腦上顯示加蒸中的溫度數(shù)據(jù)


技術參數(shù)


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