儀器介紹：
華測儀器開發(fā)了一種可實現(xiàn)高精度，高反射率的拋物面與高質量的加熱源相配置儀器，在高速加熱高速冷卻時，具有良好的溫度分布?？蓪崿F(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護加熱式樣，無氣氛污染?？稍诟哒婵眨?/span> 高出純度氣體中加熱。設備可組成均熱高速加熱爐，溫度斜率爐，階段加熱爐。
它提高了加熱試驗能力。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射退火爐節(jié)省了升溫時間和保持時間及自然冷卻到室溫所需時間，再試驗中也可改寫設定溫度值。能節(jié)省時間并提高實驗速度。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡單，有冷卻系，可靠。以提高試驗人員的工作效率，實現(xiàn)溫度控制操作！
設備原理：
1. 輻射加熱
紅外鍍金聚焦爐是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。
2. 紅外線燈
紅外鍍金聚焦爐是利用高能量密度的紅外光源作為加熱源的輻射加熱爐。爐體由鋁合金制成，紅外線反射面拋光，鍍金，反高光。同時配置水冷裝置。
3. 反射光
反射鏡是用高精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS系列具有拋物線型反射器和適用于片狀樣品。
設備特點
1. 高速加熱與冷卻方式
高能量的紅外燈和鍍金反射鏡允許高速加熱到高溫。同時體可配置水冷，增設氣體冷卻裝置，可實現(xiàn)快速冷卻。
2. 溫度高精度控制
通過紅外鍍金聚焦和溫度控制器的組合使用，可以控制樣品的溫度。此外，冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高精度。
3. 清潔加熱
反射鏡是用高精度曲率加工以提高反射率。反射鏡有兩種類型，一種是橢圓形的，另一種是拋物線型的，該模型rhl-e和vht-e系列有一個橢圓形反射器和適合的棒狀樣品加熱，和其他模型：rhl-p,RHL PS和RHL PSS
4. 不同環(huán)境下的加熱與冷卻
加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境，低溫（高純度惰性氣體靜態(tài)或流動），操作簡單，使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。
反射爐溫度控制裝置：
高速升溫時，配套的快速反應的控制裝置，本控制裝置采用可編程溫度控制器。高性能設計，響應速度快。
設備結構：
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序號 |
項目 |
數(shù)量 |
品牌 |
備注 |
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1 |
爐體 |
1 |
華測 |
溫度1200℃ |
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2 |
加熱源 |
1 |
GE |
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3 |
溫度控制器 |
1 |
華測 |
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4 |
電熱偶 |
1 |
omega |
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5 |
溫控表 |
1 |
歐姆龍 |
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6 |
穩(wěn)壓電源 |
1 |
華測 |
可定制 |
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7 |
制冷水機 |
1 |
同飛 |
制冷功率8KW |
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8 |
分子泵 |
1 |
萊寶 |
CF法蘭，抽速≥40L/s，極限真空度優(yōu)于-0.8Mpa |
可選配置：
（1）干栗：抽速彡120L/min,極限真空度彡4pa,噪音小于52db;
（2）全量程真空規(guī)：刀口法蘭接口，真空測量范圍5X10-7Pa到1atm;
（3）為了高速加熱、設備采用PID溫度控制，同時采用移相觸發(fā)技術保證試驗溫度；
（4）根據(jù)設備上的溫度控制器輸入?yún)?shù)，您也可以簡單輸入溫度程序設定和外部信號。另外還 可以在電腦上顯示熱中的溫度數(shù)據(jù)；
（5）自適應熱電偶包括JIS、K、J、T、E、N、R、S、B、以及L、U、W型；
（6）可設定32個程序、256個步驟的程序；
（7）30A、60A、120A內置了 SCR電路，所以范圍很廣。
更多應用：
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電子材料 |
半導體用硅化合化的PRA (加熱后急速冷卻） |
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熱源薄膜形成 |
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離子注入后 |
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硅化物的形成 |
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陶瓷與無機材料 |
陶瓷基板退火爐 |
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玻璃基板退火爐 |
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鋼鐵和金屬材料 |
薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬 |
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爐焊接模擬 |
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高真空熱處理（1000°c以下） |
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大氣氣體熔化過程 |
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壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐 |
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復合材料 |
耐熱性評價爐 |
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無機復合材料熱循環(huán)試驗爐 |
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其他 |
高溫拉伸壓縮試驗爐 |
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分段分區(qū)控制爐 |
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溫度梯度爐 |
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爐氣分析 |
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超導陶瓷退火爐 |
